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Journal Of Microelectromechanical Systems雜志在JCR分區(qū)中排名情況如何?

來源:發(fā)表之家網(wǎng)整理 2026-06-22 21:43:22

根據(jù)最新信息《Journal Of Microelectromechanical Systems》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下:

按JCI指標學科分區(qū)在學科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名152 / 368,百分位58.8INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名29 / 79,百分位63.9NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名91 / 147,百分位38.4PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名75 / 187,百分位60.2ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名167 / 368,百分位54.76INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名35 / 79,百分位56.33NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名72 / 147,百分位51.36PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名77 / 187,百分位59.09按JCI指標學科分區(qū)在學科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名165 / 352,百分位53.3INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名28 / 76,百分位63.8NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名99 / 140,百分位29.6PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名87 / 179,百分位51.7ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名168 / 354,百分位52.68INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名37 / 76,百分位51.97NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名73 / 140,百分位48.21PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名83 / 179,百分位53.91。

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Journal Of Microelectromechanical Systems 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫
按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 152 / 368

58.8

學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 29 / 79

63.9

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 91 / 147

38.4

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 75 / 187

60.2

學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 167 / 368

54.76

學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 35 / 79

56.33

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q2 72 / 147

51.36

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 77 / 187

59.09

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 165 / 352

53.3

學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 28 / 76

63.8

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 99 / 140

29.6

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 87 / 179

51.7

學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 168 / 354

52.68

學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 37 / 76

51.97

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 73 / 140

48.21

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 83 / 179

53.91

這表明該刊在工程:電子與電氣領域具有較高的學術(shù)影響力和認可度。此外,該刊創(chuàng)刊時間:1992年,影響因子:3.1,出版周期:Bimonthly、出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.以及收錄情況等信息也為其學術(shù)影響力提供了有力支持。

影響因子趨勢圖

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標,不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標,而且也是測度期刊的學術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標。

聲明:以上信息摘自網(wǎng)絡公開資料,如有不準確,請聯(lián)系我們。

Journal Of Microelectromechanical Systems

影響因子:3.1

大類學科:工程技術(shù)

中科院:3區(qū)

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