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Journal Of Microelectromechanical Systems雜志影響因子怎么看?

來源:發(fā)表之家網(wǎng)整理 2026-06-22 21:43:22

《Journal Of Microelectromechanical Systems》雜志的影響因子為3.1。

影響因子趨勢圖

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標,不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標,而且也是測度期刊的學術水平,乃至論文質量的重要指標。

以下是如何查看影響因子的幾種方法:

一、通過專業(yè)數(shù)據(jù)庫查詢

1. 通過Web of Science數(shù)據(jù)庫查詢:Web of Science是一個權威的學術數(shù)據(jù)庫,提供期刊影響因子的官方數(shù)據(jù)。

2.中國知網(wǎng)(CNKI):在CNKI中,用戶可以通過期刊導航功能搜索目標期刊,并在期刊詳情頁面查看其影響因子。

3.使用JCR:JCR是專門提供期刊引證報告的工具,隸屬于Web of Science。

二、查閱學術期刊官方網(wǎng)站

許多學術期刊會在其官方網(wǎng)站上公布最新的影響因子數(shù)據(jù)。

三、參考學術權威指南和排名

影響因子是一個動態(tài)變化的指標,會隨著時間的推移而發(fā)生變化。因此,在查看影響因子時,需要關注其發(fā)布的時間點。

《Journal Of Microelectromechanical Systems》雜志創(chuàng)刊于1992年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,出版周期為Bimonthly,國際簡稱為J MICROELECTROMECH S,中文名稱微機電系統(tǒng)雜志。該雜志旨在及時、準確、全面地報道國內外工程技術-工程:電子與電氣領域取得的最新研究成果、工作進展及學術動態(tài)、技術革新等,促進學術交流,鼓勵學術創(chuàng)新。

《Journal Of Microelectromechanical Systems》雜志分區(qū)情況

中科院分區(qū):在中科院最新升級版分區(qū)表中,大類學科工程技術位于3區(qū),小類學科ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程:電子與電氣位于3區(qū)。

JCR分區(qū):根據(jù)最新JCR分區(qū), 按JCI指標學科分區(qū)中學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,位于Q2區(qū),排名152 / 368,百分位58.8。INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION,位于Q2區(qū),排名29 / 79,百分位63.9。NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,位于Q3區(qū),排名91 / 147,百分位38.4。PHYSICS, APPLIED,位于Q2區(qū),排名75 / 187,百分位60.2。ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,位于Q2區(qū),排名167 / 368,百分位54.76。INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION,位于Q2區(qū),排名35 / 79,百分位56.33。NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,位于Q2區(qū),排名72 / 147,百分位51.36。PHYSICS, APPLIED,位于Q2區(qū),排名77 / 187,百分位59.09。 按JCI指標學科分區(qū)中學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,位于Q2區(qū),排名165 / 352,百分位53.3。INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION,位于Q2區(qū),排名28 / 76,百分位63.8。NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,位于Q3區(qū),排名99 / 140,百分位29.6。PHYSICS, APPLIED,位于Q2區(qū),排名87 / 179,百分位51.7。ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,位于Q2區(qū),排名168 / 354,百分位52.68。INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION,位于Q2區(qū),排名37 / 76,百分位51.97。NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,位于Q3區(qū),排名73 / 140,百分位48.21。PHYSICS, APPLIED,位于Q2區(qū),排名83 / 179,百分位53.91。

投稿咨詢

Journal Of Microelectromechanical Systems 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫
按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 152 / 368

58.8

學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 29 / 79

63.9

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 91 / 147

38.4

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 75 / 187

60.2

學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 167 / 368

54.76

學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 35 / 79

56.33

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q2 72 / 147

51.36

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 77 / 187

59.09

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 165 / 352

53.3

學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 28 / 76

63.8

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 99 / 140

29.6

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 87 / 179

51.7

學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 168 / 354

52.68

學科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 37 / 76

51.97

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 73 / 140

48.21

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 83 / 179

53.91

《Journal Of Microelectromechanical Systems》雜志評價數(shù)據(jù)

影響因子:3.1

Gold OA文章占比:20.45%

CiteScore:6.3

SJR:0.724

SNIP:1.256

年發(fā)文量:87

年發(fā)文量趨勢圖

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Journal Of Microelectromechanical Systems

影響因子:3.1

大類學科:工程技術

中科院:3區(qū)

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