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Journal Of Microelectromechanical Systems
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Journal Of Microelectromechanical Systems

微機(jī)電系統(tǒng)雜志雜志

中科院分區(qū):3區(qū) JCR分區(qū):Q2 預(yù)計(jì)審稿周期:約3.0個(gè)月

《Journal Of Microelectromechanical Systems》是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版的工程技術(shù)國(guó)際刊物,國(guó)際簡(jiǎn)稱為J MICROELECTROMECH S,中文名稱微機(jī)電系統(tǒng)雜志。該刊創(chuàng)刊于1992年,出版周期為Bimonthly。 《Journal Of Microelectromechanical Systems》2024年影響因子為3.1,被收錄于國(guó)際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCI、SCIE。

ISSN:1057-7157
研究方向:工程技術(shù)-工程:電子與電氣
是否預(yù)警:是
E-ISSN:1941-0158
出版地區(qū):UNITED STATES
Gold OA文章占比:20.45%
語言:English
是否OA:未開放
OA被引用占比:
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版周期:Bimonthly
影響因子:3.1
創(chuàng)刊時(shí)間:1992
年發(fā)文量:87
雜志簡(jiǎn)介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計(jì) 通訊方式 相關(guān)雜志 期刊導(dǎo)航

Journal Of Microelectromechanical Systems 雜志簡(jiǎn)介

《Journal Of Microelectromechanical Systems》重點(diǎn)專注發(fā)布工程技術(shù)-工程:電子與電氣領(lǐng)域的新研究,旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識(shí)。鼓勵(lì)該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今,在工程技術(shù)-工程:電子與電氣領(lǐng)域,有較高影響力,對(duì)來稿文章質(zhì)量要求較高,稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。

Journal Of Microelectromechanical Systems 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2026年3月發(fā)布)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 4區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2025年3月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū)趨勢(shì)圖
影響因子趨勢(shì)圖

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo),一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo),不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

Journal Of Microelectromechanical Systems 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 152 / 368

58.8

學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 29 / 79

63.9

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 91 / 147

38.4

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 75 / 187

60.2

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 167 / 368

54.76

學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 35 / 79

56.33

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q2 72 / 147

51.36

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 77 / 187

59.09

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 165 / 352

53.3

學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 28 / 76

63.8

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 99 / 140

29.6

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 87 / 179

51.7

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 168 / 354

52.68

學(xué)科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 37 / 76

51.97

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 73 / 140

48.21

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 83 / 179

53.91

Journal Of Microelectromechanical Systems CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)

  • CiteScore:6.3
  • SJR:0.724
  • SNIP:1.256

CiteScore 排名

學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q1 156 / 740

78%

大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q1 245 / 1030

76%

CiteScore趨勢(shì)圖
年發(fā)文量趨勢(shì)圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個(gè)評(píng)價(jià)學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo),該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo),給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Journal Of Microelectromechanical Systems 雜志發(fā)文統(tǒng)計(jì)

文章名稱引用次數(shù)

  • Accurate Extraction of Large Electromechanical Coupling in Piezoelectric MEMS Resonators15
  • X-Cut Lithium Niobate Laterally Vibrating MEMS Resonator With Figure of Merit of 15609
  • Fused Silica Micro Shell Resonator With T-Shape Masses for Gyroscopic Application8
  • The Multi-Mode Resonance in AlN Lamb Wave Resonators7
  • Highly Sensitive and Flexible Tactile Sensor Based on Porous Graphene Sponges for Distributed Tactile Sensing in Monitoring Human Motions7
  • A Closed-Loop Mode-Localized Accelerometer6
  • Parylene-Based Cuff Electrode With Integrated Microfluidics for Peripheral Nerve Recording, Stimulation, and Drug Delivery6
  • Capacitive MEMS Accelerometer With Perforated and Electrically Separated Mass Structure for Low Noise and Low Power6
  • Quality Factor Improvement in the Disk Resonator Gyroscope by Optimizing the Spoke Length Distribution6
  • On Cavitation on Chip in Microfluidic Devices With Surface and Sidewall Roughness Elements5

國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量

  • USA227
  • CHINA MAINLAND82
  • Canada28
  • GERMANY (FED REP GER)24
  • India18
  • Japan18
  • Italy15
  • South Korea13
  • Taiwan13
  • Saudi Arabia11

機(jī)構(gòu)發(fā)文發(fā)文量

  • UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM23
  • STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA19
  • STANFORD UNIVERSITY17
  • CARNEGIE MELLON UNIVERSITY14
  • SOUTHEAST UNIVERSITY - CHINA14
  • UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM14
  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES12
  • UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND12
  • UNIVERSITY OF MICHIGAN SYSTEM10
  • UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM10

Journal Of Microelectromechanical Systems 雜志社通訊方式

《Journal Of Microelectromechanical Systems》雜志通訊方式為:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。詳細(xì)征稿細(xì)則請(qǐng)查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導(dǎo)服務(wù),SCI檢索,確保稿件信息安全保密,合乎學(xué)術(shù)規(guī)范,詳情請(qǐng)咨詢客服。

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