根據(jù)最新信息《Journal Of Micromechanics And Microengineering》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名214 / 368，百分位42INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名43 / 79，百分位46.2NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：，位于Q4區(qū)，排名116 / 147，百分位21.4PHYSICS, APPLIED，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名123 / 187，百分位34.5ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名206 / 368，百分位44.16INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名47 / 79，百分位41.14NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名88 / 147，百分位40.48PHYSICS, APPLIED，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名110 / 187，百分位41.44按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：，位于Q2區(qū)，排名170 / 352，百分位51.8INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：，位于Q2區(qū)，排名29 / 76，百分位62.5NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名102 / 140，百分位27.5PHYSICS, APPLIED，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名96 / 179，百分位46.6ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名200 / 354，百分位43.64INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名46 / 76，百分位40.13NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名82 / 140，百分位41.79PHYSICS, APPLIED，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名106 / 179，百分位41.06。
投稿咨詢| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 214 / 368 |
42 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q3 | 43 / 79 |
46.2 |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 116 / 147 |
21.4 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 123 / 187 |
34.5 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 206 / 368 |
44.16 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q3 | 47 / 79 |
41.14 |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 88 / 147 |
40.48 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 110 / 187 |
41.44 |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 170 / 352 |
51.8 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 29 / 76 |
62.5 |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 102 / 140 |
27.5 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 96 / 179 |
46.6 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 200 / 354 |
43.64 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q3 | 46 / 76 |
40.13 |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 82 / 140 |
41.79 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 106 / 179 |
41.06 |
這表明該刊在工程：電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時間：1991年，影響因子：2.1，出版周期：Monthly、出版商：IOP Publishing Ltd.以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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