《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志的影響因子為2.1。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
以下是如何查看影響因子的幾種方法：
一、通過專業(yè)數(shù)據(jù)庫查詢
1. 通過Web of Science數(shù)據(jù)庫查詢：Web of Science是一個權(quán)威的學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫，提供期刊影響因子的官方數(shù)據(jù)。
2.中國知網(wǎng)（CNKI）：在CNKI中，用戶可以通過期刊導(dǎo)航功能搜索目標(biāo)期刊，并在期刊詳情頁面查看其影響因子。
3.使用JCR：JCR是專門提供期刊引證報告的工具，隸屬于Web of Science。
二、查閱學(xué)術(shù)期刊官方網(wǎng)站
許多學(xué)術(shù)期刊會在其官方網(wǎng)站上公布最新的影響因子數(shù)據(jù)。
三、參考學(xué)術(shù)權(quán)威指南和排名
影響因子是一個動態(tài)變化的指標(biāo)，會隨著時間的推移而發(fā)生變化。因此，在查看影響因子時，需要關(guān)注其發(fā)布的時間點。
《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志創(chuàng)刊于1991年，由IOP Publishing Ltd.出版商出版，出版周期為Monthly，國際簡稱為J MICROMECH MICROENG，中文名稱微機械與微工程雜志。該雜志旨在及時、準(zhǔn)確、全面地報道國內(nèi)外工程技術(shù)-材料科學(xué)：綜合領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進展及學(xué)術(shù)動態(tài)、技術(shù)革新等，促進學(xué)術(shù)交流，鼓勵學(xué)術(shù)創(chuàng)新。
《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志分區(qū)情況
中科院分區(qū)：在中科院最新升級版分區(qū)表中，大類學(xué)科工程技術(shù)位于4區(qū)，小類學(xué)科ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣位于4區(qū)。
JCR分區(qū)：根據(jù)最新JCR分區(qū)， 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，位于Q3區(qū)，排名214 / 368，百分位42。INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，位于Q3區(qū)，排名43 / 79，百分位46.2。NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，位于Q4區(qū)，排名116 / 147，百分位21.4。PHYSICS, APPLIED，位于Q3區(qū)，排名123 / 187，百分位34.5。ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，位于Q3區(qū)，排名206 / 368，百分位44.16。INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，位于Q3區(qū)，排名47 / 79，百分位41.14。NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，位于Q3區(qū)，排名88 / 147，百分位40.48。PHYSICS, APPLIED，位于Q3區(qū)，排名110 / 187，百分位41.44。 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，位于Q2區(qū)，排名170 / 352，百分位51.8。INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，位于Q2區(qū)，排名29 / 76，百分位62.5。NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，位于Q3區(qū)，排名102 / 140，百分位27.5。PHYSICS, APPLIED，位于Q3區(qū)，排名96 / 179，百分位46.6。ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，位于Q3區(qū)，排名200 / 354，百分位43.64。INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，位于Q3區(qū)，排名46 / 76，百分位40.13。NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，位于Q3區(qū)，排名82 / 140，百分位41.79。PHYSICS, APPLIED，位于Q3區(qū)，排名106 / 179，百分位41.06。
投稿咨詢| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 214 / 368 |
42 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q3 | 43 / 79 |
46.2 |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 116 / 147 |
21.4 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 123 / 187 |
34.5 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 206 / 368 |
44.16 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q3 | 47 / 79 |
41.14 |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 88 / 147 |
40.48 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 110 / 187 |
41.44 |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 170 / 352 |
51.8 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 29 / 76 |
62.5 |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 102 / 140 |
27.5 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 96 / 179 |
46.6 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 200 / 354 |
43.64 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q3 | 46 / 76 |
40.13 |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 82 / 140 |
41.79 |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 106 / 179 |
41.06 |
《Journal Of Micromechanics And Microengineering》雜志評價數(shù)據(jù)
影響因子：2.1
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