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Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing雜志在JCR分區(qū)中排名情況如何?

來源:發(fā)表之家網(wǎng)整理 2026-06-22 21:42:26

根據(jù)最新信息《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下:

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名198 / 368,百分位46.3ENGINEERING, MANUFACTURING,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名49 / 71,百分位31.7PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名114 / 187,百分位39.3PHYSICS, CONDENSED MATTER,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名48 / 80,百分位40.6ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名212 / 368,百分位42.53ENGINEERING, MANUFACTURING,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名47 / 71,百分位34.51PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名111 / 187,百分位40.91PHYSICS, CONDENSED MATTER,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名40 / 80,百分位50.63按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名175 / 352,百分位50.4ENGINEERING, MANUFACTURING,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名41 / 68,百分位40.4PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名100 / 179,百分位44.4PHYSICS, CONDENSED MATTER,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名45 / 79,百分位43.7ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名183 / 354,百分位48.45ENGINEERING, MANUFACTURING,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名35 / 68,百分位49.26PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名92 / 179,百分位48.88PHYSICS, CONDENSED MATTER,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名33 / 79,百分位58.86。

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Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 198 / 368

46.3

學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 49 / 71

31.7

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 114 / 187

39.3

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 48 / 80

40.6

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 212 / 368

42.53

學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 47 / 71

34.51

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 111 / 187

40.91

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 40 / 80

50.63

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 175 / 352

50.4

學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 41 / 68

40.4

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 100 / 179

44.4

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 45 / 79

43.7

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 183 / 354

48.45

學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 35 / 68

49.26

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 92 / 179

48.88

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 33 / 79

58.86

這表明該刊在工程:制造領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外,該刊創(chuàng)刊時(shí)間:1988年,影響因子:2.3,出版周期:Quarterly、出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。

影響因子趨勢圖

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價(jià)指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

聲明:以上信息摘自網(wǎng)絡(luò)公開資料,如有不準(zhǔn)確,請聯(lián)系我們。

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing

影響因子:2.3

大類學(xué)科:工程技術(shù)

中科院:3區(qū)

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