根據(jù)最新信息《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下:
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名198 / 368,百分位46.3ENGINEERING, MANUFACTURING,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名49 / 71,百分位31.7PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名114 / 187,百分位39.3PHYSICS, CONDENSED MATTER,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名48 / 80,百分位40.6ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名212 / 368,百分位42.53ENGINEERING, MANUFACTURING,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名47 / 71,百分位34.51PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名111 / 187,百分位40.91PHYSICS, CONDENSED MATTER,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名40 / 80,百分位50.63按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名175 / 352,百分位50.4ENGINEERING, MANUFACTURING,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名41 / 68,百分位40.4PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名100 / 179,百分位44.4PHYSICS, CONDENSED MATTER,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名45 / 79,百分位43.7ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名183 / 354,百分位48.45ENGINEERING, MANUFACTURING,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名35 / 68,百分位49.26PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名92 / 179,百分位48.88PHYSICS, CONDENSED MATTER,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名33 / 79,百分位58.86。
投稿咨詢| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 198 / 368 |
46.3 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING | SCIE | Q3 | 49 / 71 |
31.7 |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 114 / 187 |
39.3 |
| 學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER | SCIE | Q3 | 48 / 80 |
40.6 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 212 / 368 |
42.53 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING | SCIE | Q3 | 47 / 71 |
34.51 |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 111 / 187 |
40.91 |
| 學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER | SCIE | Q2 | 40 / 80 |
50.63 |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 175 / 352 |
50.4 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING | SCIE | Q3 | 41 / 68 |
40.4 |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 100 / 179 |
44.4 |
| 學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER | SCIE | Q3 | 45 / 79 |
43.7 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 183 / 354 |
48.45 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING | SCIE | Q3 | 35 / 68 |
49.26 |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 92 / 179 |
48.88 |
| 學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER | SCIE | Q2 | 33 / 79 |
58.86 |
這表明該刊在工程:制造領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外,該刊創(chuàng)刊時(shí)間:1988年,影響因子:2.3,出版周期:Quarterly、出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價(jià)指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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