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Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing雜志影響因子怎么看?

來(lái)源:發(fā)表之家網(wǎng)整理 2026-06-22 21:42:26

《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》雜志的影響因子為2.3。

影響因子趨勢(shì)圖

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo),不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

以下是如何查看影響因子的幾種方法:

一、通過(guò)專業(yè)數(shù)據(jù)庫(kù)查詢

1. 通過(guò)Web of Science數(shù)據(jù)庫(kù)查詢:Web of Science是一個(gè)權(quán)威的學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù),提供期刊影響因子的官方數(shù)據(jù)。

2.中國(guó)知網(wǎng)(CNKI):在CNKI中,用戶可以通過(guò)期刊導(dǎo)航功能搜索目標(biāo)期刊,并在期刊詳情頁(yè)面查看其影響因子。

3.使用JCR:JCR是專門提供期刊引證報(bào)告的工具,隸屬于Web of Science。

二、查閱學(xué)術(shù)期刊官方網(wǎng)站

許多學(xué)術(shù)期刊會(huì)在其官方網(wǎng)站上公布最新的影響因子數(shù)據(jù)。

三、參考學(xué)術(shù)權(quán)威指南和排名

影響因子是一個(gè)動(dòng)態(tài)變化的指標(biāo),會(huì)隨著時(shí)間的推移而發(fā)生變化。因此,在查看影響因子時(shí),需要關(guān)注其發(fā)布的時(shí)間點(diǎn)。

《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》雜志創(chuàng)刊于1988年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,出版周期為Quarterly,國(guó)際簡(jiǎn)稱為IEEE T SEMICONDUCT M,中文名稱半導(dǎo)體制造的IEEE交易。該雜志旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國(guó)內(nèi)外工程技術(shù)-工程:電子與電氣領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進(jìn)展及學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)、技術(shù)革新等,促進(jìn)學(xué)術(shù)交流,鼓勵(lì)學(xué)術(shù)創(chuàng)新。

《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》雜志分區(qū)情況

中科院分區(qū):在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中,大類學(xué)科工程技術(shù)位于3區(qū),小類學(xué)科ENGINEERING, MANUFACTURING工程:制造位于4區(qū)。

JCR分區(qū):根據(jù)最新JCR分區(qū), 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,位于Q3區(qū),排名198 / 368,百分位46.3。ENGINEERING, MANUFACTURING,位于Q3區(qū),排名49 / 71,百分位31.7。PHYSICS, APPLIED,位于Q3區(qū),排名114 / 187,百分位39.3。PHYSICS, CONDENSED MATTER,位于Q3區(qū),排名48 / 80,百分位40.6。ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,位于Q3區(qū),排名212 / 368,百分位42.53。ENGINEERING, MANUFACTURING,位于Q3區(qū),排名47 / 71,百分位34.51。PHYSICS, APPLIED,位于Q3區(qū),排名111 / 187,百分位40.91。PHYSICS, CONDENSED MATTER,位于Q2區(qū),排名40 / 80,百分位50.63。 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,位于Q2區(qū),排名175 / 352,百分位50.4。ENGINEERING, MANUFACTURING,位于Q3區(qū),排名41 / 68,百分位40.4。PHYSICS, APPLIED,位于Q3區(qū),排名100 / 179,百分位44.4。PHYSICS, CONDENSED MATTER,位于Q3區(qū),排名45 / 79,百分位43.7。ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,位于Q3區(qū),排名183 / 354,百分位48.45。ENGINEERING, MANUFACTURING,位于Q3區(qū),排名35 / 68,百分位49.26。PHYSICS, APPLIED,位于Q3區(qū),排名92 / 179,百分位48.88。PHYSICS, CONDENSED MATTER,位于Q2區(qū),排名33 / 79,百分位58.86。

投稿咨詢

Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(kù)
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 198 / 368

46.3

學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 49 / 71

31.7

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 114 / 187

39.3

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 48 / 80

40.6

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 212 / 368

42.53

學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 47 / 71

34.51

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 111 / 187

40.91

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 40 / 80

50.63

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 175 / 352

50.4

學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 41 / 68

40.4

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 100 / 179

44.4

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 45 / 79

43.7

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 183 / 354

48.45

學(xué)科:ENGINEERING, MANUFACTURING SCIE Q3 35 / 68

49.26

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 92 / 179

48.88

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 33 / 79

58.86

《Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing》雜志評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)

影響因子:2.3

Gold OA文章占比:4.67%

CiteScore:4.8

SJR:0.575

SNIP:1.14

年發(fā)文量:72

年發(fā)文量趨勢(shì)圖

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Ieee Transactions On Semiconductor Manufacturing

影響因子:2.3

大類學(xué)科:工程技術(shù)

中科院:3區(qū)

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