根據(jù)最新信息《Microelectronic Engineering》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下:
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名152 / 368,百分位58.8NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名91 / 147,百分位38.4OPTICS,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名45 / 125,百分位64.4PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名75 / 187,百分位60.2ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名174 / 368,百分位52.85NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名79 / 147,百分位46.6OPTICS,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名67 / 125,百分位46.8PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名84 / 187,百分位55.35按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名157 / 352,百分位55.5NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名94 / 140,百分位33.2OPTICS,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名45 / 119,百分位62.6PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名81 / 179,百分位55ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名179 / 354,百分位49.58NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名74 / 140,百分位47.5OPTICS,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名64 / 120,百分位47.08PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名88 / 179,百分位51.12。
投稿咨詢| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 152 / 368 |
58.8 |
| 學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 91 / 147 |
38.4 |
| 學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q2 | 45 / 125 |
64.4 |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 75 / 187 |
60.2 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 174 / 368 |
52.85 |
| 學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 79 / 147 |
46.6 |
| 學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q3 | 67 / 125 |
46.8 |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 84 / 187 |
55.35 |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 157 / 352 |
55.5 |
| 學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 94 / 140 |
33.2 |
| 學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q2 | 45 / 119 |
62.6 |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55 |
| 學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 179 / 354 |
49.58 |
| 學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 74 / 140 |
47.5 |
| 學(xué)科:OPTICS | SCIE | Q3 | 64 / 120 |
47.08 |
| 學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12 |
這表明該刊在工程:電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外,該刊創(chuàng)刊時間:1983年,影響因子:3.1,出版周期:Monthly、出版商:Elsevier以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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