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Microelectronic Engineering雜志在JCR分區(qū)中排名情況如何?

來源:發(fā)表之家網(wǎng)整理 2026-06-22 08:03:50

根據(jù)最新信息《Microelectronic Engineering》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下:

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名152 / 368,百分位58.8NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名91 / 147,百分位38.4OPTICS,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名45 / 125,百分位64.4PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名75 / 187,百分位60.2ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名174 / 368,百分位52.85NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名79 / 147,百分位46.6OPTICS,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名67 / 125,百分位46.8PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名84 / 187,百分位55.35按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名157 / 352,百分位55.5NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名94 / 140,百分位33.2OPTICS,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名45 / 119,百分位62.6PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名81 / 179,百分位55ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名179 / 354,百分位49.58NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名74 / 140,百分位47.5OPTICS,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名64 / 120,百分位47.08PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q2區(qū),排名88 / 179,百分位51.12。

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Microelectronic Engineering 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 152 / 368

58.8

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 91 / 147

38.4

學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 45 / 125

64.4

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 75 / 187

60.2

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 174 / 368

52.85

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 79 / 147

46.6

學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 67 / 125

46.8

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 84 / 187

55.35

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 157 / 352

55.5

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 94 / 140

33.2

學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 45 / 119

62.6

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 179 / 354

49.58

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 74 / 140

47.5

學(xué)科:OPTICS SCIE Q3 64 / 120

47.08

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 88 / 179

51.12

這表明該刊在工程:電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外,該刊創(chuàng)刊時間:1983年,影響因子:3.1,出版周期:Monthly、出版商:Elsevier以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。

影響因子趨勢圖

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

聲明:以上信息摘自網(wǎng)絡(luò)公開資料,如有不準(zhǔn)確,請聯(lián)系我們。

Microelectronic Engineering

影響因子:3.1

大類學(xué)科:工程技術(shù)

中科院:3區(qū)

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