根據(jù)最新信息《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名187 / 275，百分位32.2%；MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名255 / 342，百分位25.6%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名91 / 107，百分位15.4%；OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名68 / 100，百分位32.5%；。
投稿咨詢| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 187 / 275 |
32.2% |
| 學(xué)科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 255 / 342 |
25.6% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 91 / 107 |
15.4% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q3 | 68 / 100 |
32.5% |
這表明該刊在工程：電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認可度。此外，該刊創(chuàng)刊時間：2007年，出版周期：Quarterly、出版商：SPIE以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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