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Journal Of Laser Micro Nanoengineering雜志在JCR分區(qū)中排名情況如何?

來源:發(fā)表之家網(wǎng)整理 2026-06-22 08:03:38

根據(jù)最新信息《Journal Of Laser Micro Nanoengineering》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下:

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名411 / 461,百分位11NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名139 / 147,百分位5.8OPTICS,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名106 / 125,百分位15.6PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名165 / 187,百分位12MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名414 / 463,百分位10.69NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名133 / 147,百分位9.86OPTICS,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名114 / 125,百分位9.2PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名171 / 187,百分位8.82按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名389 / 438,百分位11.3NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名131 / 140,百分位6.8OPTICS,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名104 / 119,百分位13PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名165 / 179,百分位8.1MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名379 / 438,百分位13.58NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名125 / 140,百分位11.07OPTICS,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名110 / 120,百分位8.75PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名160 / 179,百分位10.89。

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Journal Of Laser Micro Nanoengineering 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 411 / 461

11

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 139 / 147

5.8

學(xué)科:OPTICS SCIE Q4 106 / 125

15.6

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 165 / 187

12

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 414 / 463

10.69

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 133 / 147

9.86

學(xué)科:OPTICS SCIE Q4 114 / 125

9.2

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 171 / 187

8.82

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 389 / 438

11.3

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 131 / 140

6.8

學(xué)科:OPTICS SCIE Q4 104 / 119

13

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 165 / 179

8.1

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 379 / 438

13.58

學(xué)科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 125 / 140

11.07

學(xué)科:OPTICS SCIE Q4 110 / 120

8.75

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 160 / 179

10.89

這表明該刊在納米科技領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外,該刊創(chuàng)刊時間:2006年,影響因子:0.9,出版周期:Tri-annual、出版商:Japan Laser Processing以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。

影響因子趨勢圖

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

聲明:以上信息摘自網(wǎng)絡(luò)公開資料,如有不準(zhǔn)確,請聯(lián)系我們。

Journal Of Laser Micro Nanoengineering

影響因子:0.9

大類學(xué)科:物理與天體物理

中科院:4區(qū)

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