《Recent Patents On Nanotechnology》雜志社的通訊方式如下：EXECUTIVE STE Y-2, PO BOX 7917, SAIF ZONE, SHARJAH, U ARAB EMIRATES, 1200 BR。
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期刊簡介：
《Recent Patents On Nanotechnology》是一本由Bentham Science Publishers B.V.出版商出版的材料科學(xué)學(xué)術(shù)期刊，國際簡稱為RECENT PAT NANOTECH，中文名稱《最近的納米技術(shù)專利》。該刊自2007年創(chuàng)刊以來，一直以年度3 issues/year形式出版。并被國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCI、SCIE收錄。
該刊專注于納米科技及相關(guān)領(lǐng)域的前沿研究，致力于推動(dòng)該領(lǐng)域新技術(shù)和新知識的傳播與應(yīng)用。它鼓勵(lì)研究人員詳細(xì)發(fā)表高質(zhì)量的實(shí)驗(yàn)研究和理論成果，為學(xué)術(shù)交流提供高質(zhì)量的平臺。
該刊的平均審稿周期約3.0個(gè)月。自創(chuàng)刊以來， 《Recent Patents On Nanotechnology》在納米科技領(lǐng)域一直具有很高的影響力，對稿件質(zhì)量要求嚴(yán)格。
《Recent Patents On Nanotechnology》雜志的影響因子為3.1，屬于未開放OA期刊，Gold OA文章占比：0.00%。且被收錄于國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCI、SCIE。
投稿咨詢影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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