《Journal Of Applied Crystallography》雜志主要接收以下類(lèi)型的文章：

CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYCRYSTALLOGRAPH-CRYSTALLOGRAPHY領(lǐng)域的研究?：文章內(nèi)容涵蓋CRYSTALLOGRAPHY領(lǐng)域的最新研究成果、技術(shù)革新和學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)。

高質(zhì)量學(xué)術(shù)論文?：雜志對(duì)文章質(zhì)量要求較高，通常接收具有創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)價(jià)值的研究成果。

投稿要求

內(nèi)容要求：投稿的文章應(yīng)涵蓋材料科學(xué)的關(guān)鍵主題，提供最新的研究進(jìn)展和學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)。

格式要求：投稿者需要遵循《Journal Of Applied Crystallography》雜志的投稿要求和格式規(guī)范，包括文章結(jié)構(gòu)、引用格式等。

其他信息

《Journal Of Applied Crystallography》雜志出版周期：Bimonthly，出版地區(qū)：ENGLAND，語(yǔ)言：English。

該雜志屬于中科院分區(qū)中大類(lèi)學(xué)科材料科學(xué)領(lǐng)域的3區(qū)，小類(lèi)學(xué)科CRYSTALLOGRAPHY晶體學(xué)領(lǐng)域的2區(qū)。小類(lèi)學(xué)科CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY化學(xué)：綜合領(lǐng)域的3區(qū)。

投稿咨詢

在JCR分區(qū)中為Q1（ 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名66 / 230，百分位71.5%；CRYSTALLOGRAPHY，收錄子集：SCIE，位于Q1區(qū)，排名2 / 33，百分位95.5%； 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY，收錄子集：SCIE，位于Q1區(qū)，排名25 / 231，百分位89.39%CRYSTALLOGRAPHY，收錄子集：SCIE，位于Q1區(qū)，排名1 / 33，百分位98.48% ）。

目前是未開(kāi)放獲取期刊（OA） ，審稿周期預(yù)計(jì)為：平均審稿速度為 ，影響因子指數(shù)5.2。

該雜志創(chuàng)刊至今，在材料科學(xué)-晶體學(xué)領(lǐng)域，影響力非凡，對(duì)來(lái)稿文章質(zhì)量要求很高，稿件投稿過(guò)審難度很大，刊登文章的學(xué)術(shù)水平和編輯質(zhì)量在同類(lèi)雜志中均名列前茅。如果你想在該雜志上發(fā)表論文，你可以向編輯部提交文章，但文章必須具有重要意義并代表該領(lǐng)域?qū)I(yè)的發(fā)展。我們歡迎廣大同領(lǐng)域的研究者提交投稿。

聲明：以上信息摘自網(wǎng)絡(luò)公開(kāi)資料，如有不準(zhǔn)確，請(qǐng)聯(lián)系我們。