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Materials Science In Semiconductor Processing
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Materials Science In Semiconductor Processing

半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)雜志

中科院分區(qū):3區(qū) JCR分區(qū):Q2 預(yù)計(jì)審稿周期:約1.7個(gè)月

《Materials Science In Semiconductor Processing》是一本由Elsevier Ltd出版商出版的材料科學(xué)國際刊物,國際簡稱為MAT SCI SEMICON PROC,中文名稱半導(dǎo)體加工中的材料科學(xué)。該刊創(chuàng)刊于1998年,出版周期為Bimonthly。 《Materials Science In Semiconductor Processing》2024年影響因子為4.6,被收錄于國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCI、SCIE。

ISSN:1369-8001
研究方向:工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合
是否預(yù)警:是
E-ISSN:1873-4081
出版地區(qū):ENGLAND
Gold OA文章占比:5.21%
語言:English
是否OA:未開放
OA被引用占比:
出版商:Elsevier Ltd
出版周期:Bimonthly
影響因子:4.6
創(chuàng)刊時(shí)間:1998
年發(fā)文量:997
雜志簡介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計(jì) 通訊方式 相關(guān)雜志 期刊導(dǎo)航

Materials Science In Semiconductor Processing 雜志簡介

《Materials Science In Semiconductor Processing》重點(diǎn)專注發(fā)布工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合領(lǐng)域的新研究,旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識。鼓勵(lì)該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今,在工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合領(lǐng)域,有較高影響力,對來稿文章質(zhì)量要求較高,稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。

Materials Science In Semiconductor Processing 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2026年3月發(fā)布)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2025年3月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
材料科學(xué) 3區(qū) PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 2區(qū) 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 3區(qū) 4區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月升級版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū)趨勢圖
影響因子趨勢圖

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo),一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價(jià)指標(biāo),不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

Materials Science In Semiconductor Processing 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 96 / 368

74

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 161 / 461

65.2

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 52 / 187

72.5

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 25 / 80

69.4

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 124 / 368

66.44

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 146 / 463

68.57

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 52 / 187

72.46

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q1 19 / 80

76.88

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 89 / 352

74.9

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 158 / 438

64

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 51 / 179

71.8

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q2 25 / 79

69

學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 113 / 354

68.22

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 125 / 438

71.58

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 47 / 179

74.02

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q1 19 / 79

76.58

Materials Science In Semiconductor Processing CiteScore 評價(jià)數(shù)據(jù)

  • CiteScore:8.7
  • SJR:0.767
  • SNIP:1.069

CiteScore 排名

學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q1 93 / 740

87%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q1 57 / 446

87%

大類:Engineering 小類:Mechanics of Materials Q1 62 / 408

84%

大類:Engineering 小類:General Materials Science Q1 103 / 475

78%

CiteScore趨勢圖
年發(fā)文量趨勢圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個(gè)評價(jià)學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo),該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo),給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Materials Science In Semiconductor Processing 雜志發(fā)文統(tǒng)計(jì)

文章名稱引用次數(shù)

  • Photocatalytic, Fenton and photo-Fenton degradation of RhB over Z-scheme g-C3N4/LaFeO3 heterojunction photocatalysts31
  • Recent progress in the growth of beta-Ga2O3 for power electronics applications23
  • Improving microstructural properties and minimizing crystal imperfections of nanocrystalline Cu2O thin films of different solution molarities for solar cell applications20
  • BaTiO3/TiO2 composite-assisted photocatalytic degradation for removal of acetaminophen from synthetic wastewater under UV-vis irradiation19
  • A review on plasmonic Au-ZnO heterojunction photocatalysts: Preparation, modifications and related charge carrier dynamics18
  • Construction of g-C3N4/ZIF-67 photocatalyst with enhanced photocatalytic CO2 reduction activity17
  • Study of the photocatalysis and increase of antimicrobial properties of Fe3+ and Pb2+ co-doped ZnO nanoparticles obtained by microwave-assisted hydrothermal method16
  • Advances in chemiresistive sensors for acetone gas detection16
  • Neodymium doped TiO2 nanoparticles by sol-gel method for antibacterial and photocatalytic activity15
  • From thin film to bulk 3C-SiC growth: Understanding the mechanism of defects reduction15

國家/地區(qū)發(fā)文量

  • CHINA MAINLAND376
  • India309
  • South Korea97
  • Turkey76
  • Mexico73
  • Japan71
  • Iran65
  • USA63
  • Saudi Arabia55
  • Italy48

機(jī)構(gòu)發(fā)文發(fā)文量

  • INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (IIT SYSTEM)48
  • NATIONAL INSTITUTE OF TECHNOLOGY (NIT SYSTEM)42
  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES37
  • SRM INSTITUTE OF SCIENCE & TECHNOLOGY CHENNAI36
  • CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE (CNR)26
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)25
  • INSTITUTO POLITECNICO NACIONAL - MEXICO23
  • COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH (CSIR) - INDIA22
  • UNIVERSIDAD NACIONAL AUTONOMA DE MEXICO19
  • KING KHALID UNIVERSITY17

Materials Science In Semiconductor Processing 雜志社通訊方式

《Materials Science In Semiconductor Processing》雜志通訊方式為:ELSEVIER SCI LTD, THE BOULEVARD, LANGFORD LANE, KIDLINGTON, OXFORD, ENGLAND, OXON, OX5 1GB。詳細(xì)征稿細(xì)則請查閱雜志社征稿要求。本站可提供SCI投稿輔導(dǎo)服務(wù),SCI檢索,確保稿件信息安全保密,合乎學(xué)術(shù)規(guī)范,詳情請咨詢客服。

SCI期刊分類導(dǎo)航

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若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:ELSEVIER SCI LTD, THE BOULEVARD, LANGFORD LANE, KIDLINGTON, OXFORD, ENGLAND, OXON, OX5 1GB。

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