根據(jù)最新信息《Journal Of Vacuum Science & Technology B》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下:
按JCI指標學科分區(qū)在學科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名289 / 368,百分位21.6NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名131 / 147,百分位11.2PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名155 / 187,百分位17.4ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名293 / 368,百分位20.52NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名123 / 147,百分位16.67PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名151 / 187,百分位19.52按JCI指標學科分區(qū)在學科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名252 / 352,百分位28.6NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名115 / 140,百分位18.2PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名134 / 179,百分位25.4ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名278 / 354,百分位21.61NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名115 / 140,百分位18.21PHYSICS, APPLIED,收錄子集:,位于Q4區(qū),排名145 / 179,百分位19.27。
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| 學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 289 / 368 |
21.6 |
| 學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 131 / 147 |
11.2 |
| 學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 155 / 187 |
17.4 |
| 學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 293 / 368 |
20.52 |
| 學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 123 / 147 |
16.67 |
| 學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 151 / 187 |
19.52 |
| 按JCI指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 252 / 352 |
28.6 |
| 學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.2 |
| 學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 134 / 179 |
25.4 |
| 學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 278 / 354 |
21.61 |
| 學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.21 |
| 學科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 145 / 179 |
19.27 |
這表明該刊在工程:電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學術(shù)影響力和認可度。此外,該刊創(chuàng)刊時間:1991年,影響因子:1.2,出版周期:Bimonthly、出版商:AVS Science and Technology Society以及收錄情況等信息也為其學術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標,不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標,而且也是測度期刊的學術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標。
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