根據(jù)最新信息《Plasma Sources Science & Technology》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：，位于Q1區(qū)，排名7 / 41，百分位84.1PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：，位于Q1區(qū)，排名7 / 41，百分位84.15按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：，位于Q1區(qū)，排名6 / 40，百分位86.3PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：，位于Q1區(qū)，排名6 / 40，百分位86.25。
投稿咨詢| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 7 / 41 |
84.1 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 7 / 41 |
84.15 |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3 |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25 |
這表明該刊在物理：流體與等離子體領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時(shí)間：1992年，影響因子：3.3，出版周期：Bimonthly、出版商：IOP Publishing Ltd.以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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