《Photodermatology Photoimmunology & Photomedicine》雜志主要接收以下類型的文章：
醫(yī)學-皮膚病學領域的研究?：文章內容涵蓋皮膚病學領域的最新研究成果、技術革新和學術動態(tài)。
高質量學術論文?：雜志對文章質量要求較高，通常接收具有創(chuàng)新性和學術價值的研究成果。
投稿要求
內容要求：投稿的文章應涵蓋醫(yī)學的關鍵主題，提供最新的研究進展和學術動態(tài)。
格式要求：投稿者需要遵循《Photodermatology Photoimmunology & Photomedicine》雜志的投稿要求和格式規(guī)范，包括文章結構、引用格式等。
其他信息
《Photodermatology Photoimmunology & Photomedicine》雜志出版周期：Bimonthly，出版地區(qū)：DENMARK，語言：English。
該雜志屬于中科院分區(qū)中大類學科醫(yī)學領域的4區(qū)，小類學科DERMATOLOGY皮膚病學領域的4區(qū)。
投稿咨詢| 大類學科 | 分區(qū) | 小類學科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
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| 醫(yī)學 | 4區(qū) | DERMATOLOGY 皮膚病學 | 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 醫(yī)學 | 4區(qū) | DERMATOLOGY 皮膚病學 | 3區(qū) | 否 | 否 |
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| 醫(yī)學 | 4區(qū) | DERMATOLOGY 皮膚病學 | 3區(qū) | 否 | 否 |
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| 醫(yī)學 | 4區(qū) | DERMATOLOGY 皮膚病學 | 3區(qū) | 否 | 否 |
在JCR分區(qū)中為Q2（ 按JIF指標學科分區(qū)學科為DERMATOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名36 / 94，百分位62.2%； 按JCI指標學科分區(qū)在學科為DERMATOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名43 / 94，百分位54.79% ）。
目前是未開放獲取期刊（OA） ，審稿周期預計為：平均審稿速度為 較慢,6-12周 ，影響因子指數(shù)2.5。
該雜志創(chuàng)刊至今，在醫(yī)學-皮膚病學領域，影響力非凡，對來稿文章質量要求很高，稿件投稿過審難度很大，刊登文章的學術水平和編輯質量在同類雜志中均名列前茅。如果你想在該雜志上發(fā)表論文，你可以向編輯部提交文章，但文章必須具有重要意義并代表該領域專業(yè)的發(fā)展。我們歡迎廣大同領域的研究者提交投稿。
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