根據(jù)最新信息《Revista Chilena De Derecho Y Tecnologia》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為L(zhǎng)AW，收錄子集：ESCI，位于Q3區(qū)，排名233 / 421，百分位44.8%；按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為L(zhǎng)AW，收錄子集：ESCI，位于Q3區(qū)，排名305 / 421，百分位27.67%。
投稿咨詢| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：LAW | ESCI | Q3 | 233 / 421 |
44.8% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：LAW | ESCI | Q3 | 305 / 421 |
27.67% |
此外，該刊影響因子：0.4，出版商：Universidad de Chile以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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