《Color Research And Application》雜志主要接收以下類型的文章：

工程技術(shù)-工程：化工領域的研究?：文章內(nèi)容涵蓋工程：化工領域的最新研究成果、技術(shù)革新和學術(shù)動態(tài)。

高質(zhì)量學術(shù)論文?：雜志對文章質(zhì)量要求較高，通常接收具有創(chuàng)新性和學術(shù)價值的研究成果。

投稿要求

內(nèi)容要求：投稿的文章應涵蓋工程技術(shù)的關(guān)鍵主題，提供最新的研究進展和學術(shù)動態(tài)。

格式要求：投稿者需要遵循《Color Research And Application》雜志的投稿要求和格式規(guī)范，包括文章結(jié)構(gòu)、引用格式等。

其他信息

《Color Research And Application》雜志出版周期：Bimonthly，出版地區(qū)：UNITED STATES，語言：English。

該雜志屬于中科院分區(qū)中大類學科工程技術(shù)領域的3區(qū)，小類學科CHEMISTRY, APPLIED應用化學領域的3區(qū)。小類學科IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY成像科學與照相技術(shù)領域的4區(qū)。小類學科OPTICS光學領域的4區(qū)。

投稿咨詢

在JCR分區(qū)中為Q4（ 按JIF指標學科分區(qū)學科為CHEMISTRY, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名56 / 74，百分位25%；IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名29 / 36，百分位20.8%；OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名90 / 119，百分位24.8%； 按JCI指標學科分區(qū)在學科為CHEMISTRY, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名52 / 74，百分位30.41%IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名27 / 36，百分位26.39%OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q4區(qū)，排名98 / 120，百分位18.75% ）。

目前是未開放獲取期刊（OA） ，審稿周期預計為：平均審稿速度為 12周，或約稿 ，影響因子指數(shù)1.2。

該雜志創(chuàng)刊至今，在工程技術(shù)-應用化學領域，影響力非凡，對來稿文章質(zhì)量要求很高，稿件投稿過審難度很大，刊登文章的學術(shù)水平和編輯質(zhì)量在同類雜志中均名列前茅。如果你想在該雜志上發(fā)表論文，你可以向編輯部提交文章，但文章必須具有重要意義并代表該領域?qū)I(yè)的發(fā)展。我們歡迎廣大同領域的研究者提交投稿。

聲明：以上信息摘自網(wǎng)絡公開資料，如有不準確，請聯(lián)系我們。