根據(jù)最新信息《Journal Of Electrostatics》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名214 / 368，百分位42ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名219 / 368，百分位40.63按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名211 / 352，百分位40.2ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：，位于Q3區(qū)，排名200 / 354，百分位43.64。
投稿咨詢| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 214 / 368 |
42 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 219 / 368 |
40.63 |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 211 / 352 |
40.2 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 200 / 354 |
43.64 |
這表明該刊在工程：電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時間：1975年，影響因子：2.1，出版周期：Monthly、出版商：Elsevier以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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