根據(jù)最新信息《Plasma Chemistry And Plasma Processing》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名91 / 170，百分位46.8%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名81 / 179，百分位55%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名12 / 40，百分位71.3%；按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名55 / 171，百分位68.13%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名69 / 179，百分位61.73%PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名17 / 40，百分位58.75%。
投稿咨詢| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q3 | 91 / 170 |
46.8% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.3% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q2 | 55 / 171 |
68.13% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73% |
| 學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 17 / 40 |
58.75% |
這表明該刊在工程：化工領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時(shí)間：1981年，影響因子：2.6，出版周期：Quarterly、出版商：Springer US以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
聲明：以上信息摘自網(wǎng)絡(luò)公開(kāi)資料，如有不準(zhǔn)確，請(qǐng)聯(lián)系我們。
