《Ieee Transactions On Industry Applications》雜志社的通訊方式如下：IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。
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期刊簡(jiǎn)介：
《Ieee Transactions On Industry Applications》是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版的工程技術(shù)學(xué)術(shù)期刊，國(guó)際簡(jiǎn)稱為IEEE T IND APPL，中文名稱《IEEE Transactions on Industry Application》。該刊自1965年創(chuàng)刊以來(lái)，一直以年度Bimonthly形式出版。并被國(guó)際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCI、SCIE收錄。
該刊專注于工程：綜合及相關(guān)領(lǐng)域的前沿研究，致力于推動(dòng)該領(lǐng)域新技術(shù)和新知識(shí)的傳播與應(yīng)用。它鼓勵(lì)研究人員詳細(xì)發(fā)表高質(zhì)量的實(shí)驗(yàn)研究和理論成果，為學(xué)術(shù)交流提供高質(zhì)量的平臺(tái)。
該刊的平均審稿周期一般,3-6周。自創(chuàng)刊以來(lái)， 《Ieee Transactions On Industry Applications》在工程：綜合領(lǐng)域一直具有很高的影響力，對(duì)稿件質(zhì)量要求嚴(yán)格。
《Ieee Transactions On Industry Applications》雜志的影響因子為4.5，屬于未開(kāi)放OA期刊，Gold OA文章占比：4.24%。且被收錄于國(guó)際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCI、SCIE。
投稿咨詢影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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