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Ieee Transactions On Plasma Science雜志在JCR分區(qū)中排名情況如何?

來源:發(fā)表之家網(wǎng)整理 2026-06-22 08:03:26

根據(jù)最新信息《Ieee Transactions On Plasma Science》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下:

按JCI指標學科分區(qū)在學科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名29 / 41,百分位30.5PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名28 / 41,百分位32.93按JCI指標學科分區(qū)在學科為PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名29 / 40,百分位28.7PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS,收錄子集:,位于Q3區(qū),排名30 / 40,百分位26.25。

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Ieee Transactions On Plasma Science 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫
按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 41

30.5

學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 28 / 41

32.93

按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 40

28.7

學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 30 / 40

26.25

這表明該刊在物理:流體與等離子體領(lǐng)域具有較高的學術(shù)影響力和認可度。此外,該刊創(chuàng)刊時間:1973年,影響因子:1.5,出版周期:Bimonthly、出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.以及收錄情況等信息也為其學術(shù)影響力提供了有力支持。

影響因子趨勢圖

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標,不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標,而且也是測度期刊的學術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標。

聲明:以上信息摘自網(wǎng)絡公開資料,如有不準確,請聯(lián)系我們。

Ieee Transactions On Plasma Science

影響因子:1.5

大類學科:物理與天體物理

中科院:3區(qū)

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