原生
2023-11-17 09:10:03
謝謝分享光刻機：國產光刻機：國產替代
@加油奧利給：
核心觀點光刻為C制造核心工藝，光刻技術的演進成就了摩爾定律。光刻工藝占IC制造1/2的時間+1/3的成本，在瑞利公式：=1/的指導下，人類在縮短波長，增大數值孔徑NA,降低工藝因子1三個方面展開探索，目前已實現13.5nm波長與達物理極限的1，正在向0.55 NAEUV邁步。為了實現進一步制程微縮，
55
贊同-89 評論
聲明：文章觀點來自網友，僅為作者個人研究意見，不代表韭研公社觀點及立場，站內所有文章均不構成投資建議，請投資者注意風險，獨立審慎決策。
工分
0.01
轉發
收藏
投訴
復制鏈接
分享到微信
有用 0
打賞作者
無用
真知無價，用錢說話
0個人打賞
同時轉發
暫無數據