@戈壁淘金:
光刻(ke)機是半導體制造過程(cheng)中價值量和技術壁壘最高(gao)的設備之一。全球光刻(ke)機市(shi)(shi)場(chang)規模超230億(yi)美元,ASML處于(yu)絕對領先,國(guo)內市(shi)(shi)場(chang)規模超200億(yi)元,但是國(guo)產(chan)化率僅2.5%。目(mu)前半導體制造工(gong)藝節(jie)點縮小至(zhi)5nm及以下,曝(pu)光波長(chang)逐漸縮短(duan)至(zhi)13.5nm,光刻(ke)技術逐步完善成熟,但是國(guo)內光刻(ke)機仍(reng)明顯落后ASML。同(tong)時,美
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