@大俠風清揚:
光(guang)刻機(ji)(ji)是(shi)芯片(pian)制(zhi)造(zao)中最復(fu)雜、最昂(ang)貴的(de)設備。芯片(pian)制(zhi)造(zao)可以包括(kuo)多(duo)(duo)個工(gong)藝(yi),如初步氧化、涂光(guang)刻膠、曝光(guang)、顯影、刻蝕、離(li)子注入。這(zhe)個過程需要用到(dao)的(de)設備種類繁多(duo)(duo),包括(kuo)氧化爐、涂膠顯影機(ji)(ji)、光(guang)刻機(ji)(ji)、薄膜沉積設備、刻蝕機(ji)(ji)、離(li)子注入機(ji)(ji)、拋光(guang)設備、清(qing)洗(xi)設備和(he)檢測設備等。在整個半導體(ti)芯片(pian)制(zhi)造(zao)過程中,光(guang)刻是(shi)最復(fu)雜工(gong)藝(yi),光(guang)刻工(gong)藝(yi)
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