@紅研記:
光刻(ke)機(ji)(ji)半導(dao)體工業(ye)皇冠(guan)上的(de)明珠(zhu) 光刻(ke)機(ji)(ji)是制(zhi)(zhi)造芯(xin)片的(de)核心裝備,除了ASML,日本尼(ni)康也(ye)有光刻(ke)機(ji)(ji)業(ye)務,但主流的(de)深紫外線(xian)光刻(ke)機(ji)(ji)(DUV)、極紫外線(xian)光刻(ke)機(ji)(ji)(EUV)幾(ji)乎被ASML壟斷,其中頂尖的(de)EUV光刻(ke)機(ji)(ji)只有ASML可以出貨(huo)。 DUV光刻(ke)機(ji)(ji)主要用于(yu)14nm及以上制(zhi)(zhi)程,但多次曝光也(ye)可做7n
29
贊同-25 評論