飲冰47
2023-11-12 21:50:24
感(gan)謝(xie)分享，好(hao)文(wen)
@哈哈大王：
光刻機造芯片過程(cheng)(cheng)中(zhong)，需(xu)要(yao)清洗，清洗過程(cheng)(cheng)中(zhong)需(xu)要(yao)用到超(chao)(chao)純(chun)水，臺(tai)積電的(de)3nm工廠(chang)一天用水量就高達(da)13萬噸，約等于7500輛拉水車的(de)容(rong)量，目的(de)是為了生產(chan)超(chao)(chao)純(chun)水用于整個芯片制作(zuo)過程(cheng)(cheng)中(zhong)的(de)濕法清洗。目前(qian)超(chao)(chao)純(chun)水的(de)生產(chan)設備(bei)基本都被國外壟(long)斷超(chao)(chao)純(chun)水的(de)市場規模有300億人(ren)民幣以(yi)上； 而(er)沃(wo)頓科技一直在自主研發超(chao)(chao)純(chun)水
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