@柴爾德:
省流總(zong)結:光刻(ke)(ke)機里發生(sheng)了?1.光掩(yan)模、透(tou)鏡組和(he)硅片工件臺會精密對準和(he)調平(ping)2.光源(yuan)放光3.移動工件臺? 光刻(ke)(ke)為(wei)IC制(zhi)造核(he)心工藝(yi),光刻(ke)(ke)技術的(de)演進成(cheng)就了摩爾定律。光刻(ke)(ke)工藝(yi)占IC制(zhi)造1/2的(de)時間+1/3的(de)成(cheng)本,在瑞利(li)公式(shi):???? = ??1??/???? 的(de)指導下,人(ren)類在縮短波長??,增大數值孔(kong)徑NA,降
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