@題材驅動:
半導體(ti)材料(liao)(liao)是(shi)未來(lai)幾年(nian)國內替代率(lv)會快速(su)上升(sheng)的(de)領(ling)域之一(yi),布局材料(liao)(liao)領(ling)域的(de)企業(ye)(ye)值得我們(men)去關注(zhu)。今(jin)天(tian),我們(men)就介紹(shao)一(yi)個(ge)市場比較小,但又很關鍵(jian)的(de)半導體(ti)材料(liao)(liao)——掩膜版(Photomask)。
掩膜版是(shi)半導體(ti)等(deng)制造(zao)的(de)關鍵(jian)耗(hao)材
掩模版又稱光(guang)罩、光(guang)掩膜、光(guang)刻(ke)掩膜版、掩模版等(deng),是(shi)下(xia)游行業(ye)(ye)產品制造(zao)過程中的(de)圖形“底(di)片”轉移用的(de)
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